什么是等離子清洗機?
等離子清洗機(Plasma Cleaner)也叫等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。
等離子清洗屬于干法清洗,采用氣相化學(xué)法去除材料表面污染物。氣相化學(xué)法主要有熱氧化法和等離子清洗法等,清洗過程就是將熱化學(xué)氣體或等離子態(tài)反應(yīng)氣體導(dǎo)入反應(yīng)室,反應(yīng)氣體與晶片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成易揮發(fā)性反應(yīng)產(chǎn)物被真空抽去。
等離子體基礎(chǔ)知識:
等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。
等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
等離子清洗的優(yōu)勢:
滿足無損傷和抑制腐蝕的新工藝要求。等離子清洗原理與超聲波原理不同,當(dāng)艙體里接近真空狀態(tài)時,開啟射頻電源,這時氣體分子電離,產(chǎn)生等離子體,并且伴隨輝光放電現(xiàn)象。
等離子體在電場下加速,從而在電場作用下高速運動,對物體表面發(fā)生物理碰撞,等離子的能量足以去除各種污染物,同時氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。
等離子清洗不需要其他的原料,只要空氣就能夠滿足要求,使用方便而且沒有污染,同時比超聲波清洗更具有的優(yōu)勢是等離子不但可以進行表面清洗,更重要的是可以提高表面活性。
等離子體與物體表面進行化學(xué)反應(yīng)能夠產(chǎn)生活性化學(xué)集團,這些化學(xué)集團有很高的活性,從而應(yīng)用范圍很廣,比如提高材料表面粘接能力,提高焊接能力,綁定性,親水性等等很多方面,因此等離子清洗已經(jīng)成為清洗行業(yè)的主流趨勢。
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