等離子清洗原理與超聲波原理不同,當艙體里接近真空狀態(tài)時,開啟射頻電源,這時氣體分子電離,產生等離子體,并且伴隨輝光放電現(xiàn)象,等離子體在電場下加速,從而在電場作用下高速運動,對物體表面發(fā)生物理碰撞,等離子的能量足以去除各種污染物,同時氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。
等離子清洗不需要其他的原料,只要空氣就能夠滿足要求,使用方便而且沒有污染,
同時比超聲波清洗更具有的優(yōu)勢是等離子不但可以進行表面清洗,更重要的是可以提高表面活性,等離子體與物體表面進行化學反應能夠產生活性化學集團,這些化學集團有很高的活性,從而應用范圍很廣,比如提高材料表面粘接能力,提高焊接能力,邦定性,親水性等等很多方面,因此等離子清洗已經成為清洗行業(yè)的主流與趨勢。
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