低溫等離子體主要特點(diǎn):任何濕洗法清洗,表面都會(huì)有殘留,只有低溫等離子體表面處理才能做到徹底的凈化,得到超高潔凈度的表面,且低溫等離子體只對(duì)材料納米級(jí)的表面起作用,不會(huì)改變材料原有的特性,在對(duì)表面潔凈度要求較高的工藝中,正在取代濕法處理工藝而得到廣泛使用。
處理機(jī)理:主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。氣體被激發(fā)為等離子態(tài);重粒子撞擊固體表面;電子與活性基團(tuán)與固體表面發(fā)生反應(yīng)解析為新的氣相物質(zhì)而脫離表面。
等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
2、等離子體處理的活化作用:
經(jīng)低溫等離子體處理后使物體表面形成C=O羰基(Carbonyl)、-COOH羧基(Carboxyl) 、?OH羥基(Hydroxyl)三種基團(tuán)。這些基團(tuán)具有穩(wěn)定的親水功能,對(duì)粘接、涂覆有積極作用。
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